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751 件の商品がみつかりました。 [601-650] を表示
写真 (クリックで拡大) 商品カテゴリ
商品NO		 機器名称
年代		 仕様
モデルNO		 メーカー名
価格 (円)
3:真空コンポーネント マスフローコントローラー（MFC） ガス:H2　流量:200CCM 665：堀場エステック　Stec
15707  SEC-410 30,000
3:真空コンポーネント マスフローコントローラー（MFC） ガス:CF4　流量:500CCM 665：堀場エステック　Stec
15709  SEC-400MK2 30,000
3:真空コンポーネント マスフローコントローラー（MFC） ガス:CF4　流量:300SCCM 665：堀場エステック　Stec
15710  SEC-4400MO 30,000
3:真空コンポーネント マスフローコントローラー（MFC） ガス:CF4　流量:100SCCM 665：堀場エステック　Stec
15711  SEC-4400R 30,000
3:真空コンポーネント マスフローコントローラー（MFC） ガス:SF6　流量:200SCCM 665：堀場エステック　Stec
15712  SEC-421 30,000
3:真空コンポーネント マスフローコントローラー（MFC） ガス:SiH4　流量:2LM 665：堀場エステック　Stec
15715  SEC-400MK3-K 30,000
3:真空コンポーネント マスフローコントローラー（MFC） ガス:SiH4　流量:200SCCM 665：堀場エステック　Stec
15716  SEC-410Z 30,000
3:真空コンポーネント マスフローコントローラー（MFC） ガス:SiH4　流量:500SCCM 665：堀場エステック　Stec
15717  SEC-4400M 30,000
3:真空コンポーネント マスフローコントローラー（MFC） ガス:SiH4　流量:500SCCM 665：堀場エステック　Stec
15718  SEC-410-UC 30,000
3:真空コンポーネント マスフローコントローラー（MFC） ガス:CI2　流量:50SCCM 665：堀場エステック　Stec
15719  SEC-4400RO 30,000
3:真空コンポーネント マスフローコントローラー（MFC） ガス:SiCl4　流量:300CCM 665：堀場エステック　Stec
15721  SEC-410LP 30,000
3:真空コンポーネント マスフローコントローラー（MFC） ガス:SiCl4　流量:300SCCM 665：堀場エステック　Stec
15722  SEC-4400M 30,000
3:真空コンポーネント マスフローコントローラー（MFC） ガス:N2O　流量:2LM 665：堀場エステック　Stec
15723  SEC-400MK3-K 30,000
3:真空コンポーネント マスフローコントローラー（MFC） ガス:SiH2Cl2　流量:200SCCM 665：堀場エステック　Stec
15726  SEC-4400MC-UC 30,000
3:真空コンポーネント マスフローコントローラー（MFC） ガス:CHF3　流量:100SCCM 665：堀場エステック　Stec
15727  SEC-4400ｰMO 30,000
3:真空コンポーネント マスフローコントローラー（MFC） ガス:CHF3　流量:100CCM 665：堀場エステック　Stec
15728  SEC-4400RC 30,000
3:真空コンポーネント マスフローコントローラー（MFC） ガス:CHF3　流量:200CCM 665：堀場エステック　Stec
15729  SEC-4400RC 30,000
3:真空コンポーネント マスフローコントローラー（MFC） ガス:BCI3　流量:200CCM 665：堀場エステック　Stec
15730  SEC-4400MC 30,000
3:真空コンポーネント マスフローコントローラー（MFC） ガス:HCI　流量:2SLM 665：堀場エステック　Stec
15731  SEC-4400M 30,000
3:真空コンポーネント マスフローコントローラー（MFC） ガス:HBr　流量:100SCCM 665：堀場エステック　Stec
15732  SEC-4400M 30,000
3:真空コンポーネント マスフローコントローラー（MFC） ガス:CH3OH　流量:100CCM 665：堀場エステック　Stec
15733  SEC-4401M 30,000
3:真空コンポーネント マスフローコントローラー（MFC） ガス:CCI4　流量:50SCCM 665：堀場エステック　Stec
15734  SEC-4400-RC 30,000
3:真空コンポーネント マスフローコントローラー（MFC） ガス:He　流量:10CCM 665：堀場エステック　Stec
15735  SEC-4400RC 商談中
3:真空コンポーネント マスフローコントローラー（MFC） ガス:15%PH3/H2　流量:10CCM 665：堀場エステック　Stec
15737  SEC-310 30,000
3:真空コンポーネント マスフローコントローラー（MFC） ガス:20%SiH4/He　流量:2LM 665：堀場エステック　Stec
15738  SEC-310 30,000
3:真空コンポーネント マスフローコントローラー（MFC） ガス:2%B2H6/N2　流量:1LM 665：堀場エステック　Stec
15739  SEC-F440M 30,000
3:真空コンポーネント マスフローコントローラー（MFC） ガス:1%B2H6/Ar　流量:1LM 665：堀場エステック　Stec
15740  SEC-410 30,000
3:真空コンポーネント マスフローコントローラー（MFC） ガス:1%B2H6/Ar　流量:1LM 665：堀場エステック　Stec
15741  SEC-410 30,000
3:真空コンポーネント マスフローコントローラー（MFC） ガス:1%B2H6/Ar　流量:1LM 665：堀場エステック　Stec
15742  SEC-410 30,000
3:真空コンポーネント マスフローコントローラー（MFC） ガス:4%PH3/Ar　流量:250CCM 665：堀場エステック　Stec
15743  SEC-410-146 30,000
3:真空コンポーネント マスフローコントローラー（MFC） ガス:4%PH3/Ar　流量:250CCM 665：堀場エステック　Stec
15744  SEC-410-146 30,000
3:真空コンポーネント マスフローコントローラー（MFC） ガス:4%PH3/Ar　流量:250CCM 665：堀場エステック　Stec
15745  SEC-410-146 30,000
3:真空コンポーネント マスフローコントローラー（MFC） ガス:1%PH3/N2　流量:5SLM 665：堀場エステック　Stec
15746  SEC-410 30,000
3:真空コンポーネント マスフローコントローラー（MFC） ガス:20%SiH4/Ar　流量:1LM 665：堀場エステック　Stec
15747  SEC-410 30,000
3:真空コンポーネント マスフローコントローラー（MFC） ガス:20%SiH4/Ar　流量:1LM 665：堀場エステック　Stec
15748  SEC-410 30,000
3:真空コンポーネント マスフローコントローラー（MFC） ガス:20%SiH4/Ar　流量:1LM 665：堀場エステック　Stec
15749  SEC-410 30,000
3:真空コンポーネント マスフローコントローラー（MFC） ガス:50%SiH4/N2　流量:1SLM 665：堀場エステック　Stec
15750  SEC-410 30,000
3:真空コンポーネント マスフローコントローラー（MFC） 665：堀場エステック　Stec
15751  PV-1502MC 30,000
3:真空コンポーネント マスフローコントローラー（MFC） 665：堀場エステック　Stec
15752  PV-1501MC 30,000
3:真空コンポーネント マスフローコントローラー（MFC） ガス:N2　流量:3SLM 1108：Unit
15755  UFC-1100 30,000
3:真空コンポーネント マスフローコントローラー（MFC） ガス:N2　流量:3SLM 1108：Unit
15756  UFC-1100 30,000
3:真空コンポーネント マスフローコントローラー（MFC） ガス:N2　流量:5SLM 1108：Unit
15757  UFC-1100 30,000
3:真空コンポーネント マスフローコントローラー（MFC） ガス:N2　流量:300SCCM 1108：Unit
15758  UFC-1100 30,000
3:真空コンポーネント マスフローコントローラー（MFC） ガス:N2　流量:5SLM 1108：Unit
15759  UFC-1100 30,000
3:真空コンポーネント マスフローコントローラー（MFC） ガス:N2　流量:100SCCM 1108：Unit
15760  UFC-1100 30,000
3:真空コンポーネント マスフローコントローラー（MFC） ガス:O2　流量:20SCCM 1108：Unit
15761  UFC-1200 30,000
3:真空コンポーネント マスフローコントローラー（MFC） ガス:O2　流量:20SCCM 1108：Unit
15762  UFC-1200 30,000
3:真空コンポーネント マスフローコントローラー（MFC） ガス:SiH4　流量:500SCCM 1108：Unit
15763  UFC-1100 30,000
3:真空コンポーネント マスフローコントローラー（MFC） ガス:SiH4　流量:500SCCM 1108：Unit
15764  UFC-1100 30,000
3:真空コンポーネント マスフローコントローラー（MFC） ガス:AR　流量:100SCCM 1108：Unit
15765  UFC-1200 30,000
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